چاپ مقاله‌ی اعضا گروه پژوهشی فناوری خلأ سازمان جهاددانشگاهی صنعتی شریف در یک مجله بین‌المللی
به گزارش روابط عمومی سازمان جهاددانشگاهی صنعتی شریف، مقاله ی «زدایش عمیق ویفر سیلیکون در پلاسما گازهای SF۶/H۲، با بررسی پارامترها و مورفولوژی سطح آن» با عنوان انگلیسی؛ Deep Reactive Etching of Silica with SF۶/H۲ Plasma: Variation of process parameters and microstructural studies
ادامه مطلب